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    GKI-21磁控濺射鍍膜機
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    • 貨號

      GKI-21  

    • 服務

        參數定制，免費培訓，終身維護，售后無憂

    • 產品描述
    • 技術文檔
    • 常見問題

    設備用途

       GKI-21磁控濺射鍍膜機用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

    設備組成

        系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

                                                  image.png


  • 技術資料：技術資料包含產品說明書、電鏡圖、成分表、材質單、粒度分析報告、技術方案、工藝流程、技術指標、檢測報告等，請您聯系銷售工程師獲取。

    1.設備展示1.jpg2質量與控制.jpg

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